电阻率、薄层电阻测量仪
Xfilm
苏州埃利测量仪器有限公司(Xfilm),专注于材料电学性能检测技术的研发与应用,致力于为全球客户提供高精度、智能化的检测设备和行业解决方案。公司自主研发出离线/在线四探针测试仪、半导体晶圆在线方阻测试仪、平板显示在线方阻测试仪、TLM接触电阻测试仪、霍尔测试仪和扩展电阻SRP测试仪等设备。
我们已为全球多个国家和地区的科研机构、新能源企业及电子元器件制造商提供设备与服务,客户涵盖“半导体制造与集成电路(IC)、光伏(太阳能电池)、显示面板与柔性电子、电子元器件、微机电系统(MEMS)与传感器、先进材料研发与纳米技术、金属与特种材料”等行业领域。
科研中心
作为深耕薄膜检测领域的创新型企业,我司在苏州高新区构建近万平米智能化制造车间,于吴中区布局总价值超 2000 万元的全流程测试研究中心。公司打造了一支高精尖的研发人员团队,由6名博士(含哈佛大学博士)领衔,汇聚20名兼具理论深度与产业洞察力的产品应用专家,可为客户提供涵盖材料表征、工艺优化、数据建模的一站式解决方案。
探索Xfilm,电阻测试的前沿资讯
2026/10/22
电镀铜里掺石墨烯,电阻率为什么反而涨了 11%?CTE 降 23% 的账要怎么算
一句话结论:CTE 降了 23%,电阻率却涨了 11%。铜是 TSV 的填充材料,但它和硅"热不到一块去":铜的热膨胀系数(CTE)约 17 ppm/K,硅只有 4.0 ppm/K
2026/10/20
同一批硅片,做过和没做过氧等离子处理,四探针测出的方阻几乎一模一样;但开尔文探针测到的功函数,从约 5.0 eV 降到 4.1 eV,差了近 0.9 eV。EPFL 这
2026/10/16
四探针测 ITO 薄膜方阻:厚度从 50 到 200 nm,最优解落在 100 nm
2026 年 6 月,国标委下达 2026 年第四批推荐性国标计划,《铜及铜合金电阻率测试 四探针法》(计划号 20262095-T-610)获批立项,预计 2027 年中完成。立