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四探针法测量Ti-Al-C薄膜的电阻率

Ti-Al-C 薄膜作为质子交换膜燃料电池PEMFC)金属双极板表面改性材料,其导电性能直接影响电池堆的输出效率,电阻率是评估该性能的核心指标。本文基于中频磁控溅射制备的 Ti-Al-C 薄膜,采用Xfilm埃利四探针技术对不同基底(不锈钢 316L、石英片)、不同制备温度(500-750℃)的薄膜电阻率进行测量,分析温度对薄膜电阻率的影响规律,为 Ti-Al-C 薄膜在燃料电池双极板领域的应用提供数据支撑。


一、四探针法测试原理

四探针测试原理图 

四探针测试原理图

四探针法通过在薄膜表面布置四根等间距探针,在外侧两探针间通入恒定电流 I,测量内侧两探针间的电势差V23,结合薄膜厚度d,利用薄层电阻公式计算电阻率:

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该方法能有效避免接触电阻的影响,适用于不同基底上薄膜的面内电阻率测量。实验中采用四探针测试仪,探针间距为1 mm,测试电流为10 mA,分别在不锈钢和石英片基底上进行测量,以排除基底导电性对测试结果的干扰。


二、实验方案

采用中频磁控溅射技术,以 TiAlC44%/17%/39%)为靶材,在不锈钢 316L 和石英片基底上制备 Ti-Al-C 薄膜。先沉积 Ti 过渡层提升结合力,再于 500-750℃设 6 个温度梯度,每组溅射 3h、保温 30min 后以 5℃/min 降温。采用四探针测试仪测量电阻率,探针间距 1mm,施加恒定小电流避免样品发热。为排除干扰,分别测试双基底薄膜,不锈钢基底电阻率约 7.1×10⁻⁶Ω⋅m,用于对比。


三、不锈钢基底Ti-Al-C薄膜电阻率

不锈钢基底不同温度下薄膜的电阻率 

不锈钢基底不同温度下薄膜的电阻率

不锈钢基底 Ti-Al-C 薄膜的电阻率均处于10⁻⁵ ~10⁻⁶Ω⋅m量级,与不锈钢及部分合金电阻率相当。

500℃时薄膜电阻率最高,主要因该温度未达到 Ti₂AlC MAX 相成相条件,薄膜以 TiC 等杂质相为主,导电性能较差;

随着温度升高至 550℃,电阻率显著下降,随后在 550-750℃范围内保持小幅下降趋势

这一变化与 XRD 表征结果一致,温度升高促进 Ti₂AlC MAX 相成相,提升薄膜导电性,但高温下 Al 元素蒸发导致少量杂质相残留,使得电阻率未持续大幅降低。


石英片基底Ti-Al-C薄膜电阻率

石英片基底不同温度下薄膜的电阻率 

石英片基底不同温度下薄膜的电阻率

石英片为绝缘基底,可完全排除基底对电流的分流作用,测量结果更能反映薄膜本身导电特性

石英片上薄膜电阻率整体高于不锈钢基底,但仍呈类似变化趋势。

700℃时电阻率最低(5.7×10⁻⁶ Ω·m),与不锈钢基底结果一致,验证了温度对薄膜本征导电性的影响。

550℃薄膜电阻率最高(1.2×10⁻⁵ Ω·m),进一步证实低温下MAX相形成不充分。


五、温度对电阻率的影响机制

温度通过影响薄膜相组成调控电阻率:低温(≤600℃)下,Ti₂AlC MAX 相难以成相,薄膜以高电阻率的 TiC 杂质相为主,导致整体电阻率较高;中高温(650-700 ℃)时,温度提供足够能量促进 MAX 相成相,薄膜中导电优良的 MAX 相占比提升,电阻率显著下降750℃时,高温导致 Al 元素蒸发Ti:Al 比例偏离成相最佳值,杂质相略有增加,电阻率小幅回升


综上,四探针法可准确测量 Ti-Al-C 薄膜的电阻率,且通过选用绝缘基底(如石英片)能有效排除基底导电性干扰,获得薄膜真实导电特性。实验结果表明,制备温度 Ti-Al-C 薄膜电阻率影响显著,700℃时薄膜电阻率最低,导电性能最优,符合燃料电池双极板表面改性的导电要求。


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Xfilm埃利四探针方阻仪用于测量薄层电阻(方阻)或电阻率,可以对最大230mm 样品进行快速、自动的扫描, 获得样品不同位置的方阻/电阻率分布信息。

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基于四探针法Xfilm埃利四探针方阻仪,凭借智能化与高精度的电阻测量优势,可助力评估电阻,推动多领域的材料检测技术升级。


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